глубокое реактивное ионное травление

глубокое реактивное ионное травление

 

глубокое реактивное ионное травление
Метод используется для установки границ глубоких геометрических конфигураций в кремнии; необходим для формирования структур MEMS.
[http://www.cscleansystems.com/glossary.html]

Тематики

  • полупроводниковые приборы

EN

  • DRIE
  • deep reactive ion etching


Справочник технического переводчика. – Интент. 2009-2013.

Поможем сделать НИР

Поделиться ссылкой на выделенное

Прямая ссылка:
Нажмите правой клавишей мыши и выберите «Копировать ссылку»