глубокое реактивное ионное травление

 

глубокое реактивное ионное травление
Метод используется для установки границ глубоких геометрических конфигураций в кремнии; необходим для формирования структур MEMS.
[http://www.cscleansystems.com/glossary.html]

Тематики

• полупроводниковые приборы

EN

• DRIE
• deep reactive ion etching